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磁控溅射+蒸发镀膜设备：立式、卧式。是一种多功能、高效的镀膜设备。可根据用户要求配置旋转磁控耙、中耙孪生溅射耙、非平衡磁控溅射耙、直流脉冲叠加式偏压电源等，组态灵活、用途广泛，主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件镀铝、铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属及渗金属DLC膜，所镀膜层均匀、致密、附着力强等特点，可广泛用于家用电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。
型号JTZ-1000 JTZ-1200 JTZ-1300 JTZ1400
真空室尺寸￠1400×1400MM ￠1200×1500MM ￠1300×1800MM ￠1400×1800MM
制膜种类：金属膜、半透明膜、不导电膜、电磁屏蔽膜、介质膜等
电源类型：电阻蒸发电源、直流磁控电源、射频电源
溅射及电极结构：圆柱磁控靶、平面矩形靶、孪生靶、蒸发电极
真空室结构：立式双开门、立式单开门、后置抽气系统/卧式单开门、侧置抽气系统
极限真空：4.0×10-4PA
真空系统组成：扩散泵+罗茨泵+机械泵+维持泵
抽气时间：从大气抽至8.5×10-3PA，小于或等于15分钟
工件运动方式：公自转/变频调速
控制方式：手动/自动一体化式，触摸屏+PLC
备注：以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做
